光刻胶国产代替仍在进行时 概念股盘点（附股）

  光刻胶，又称光致抗蚀剂，是指经过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照耀或辐射，其溶解度产生显着的改变的耐蚀剂刻薄膜资料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光灵敏的混合液体。

  在光刻工艺过程中，光刻胶用作抗腐蚀涂层资料。半导体资料在外表加工时，若采取了恰当的有选择性的光刻胶，可在外表上得到所需的图画。因为在出产的悉数过程中需求量较大，光刻胶可谓半导体工艺流程中最重要的原资料之一。

  一起，光刻胶是电子化学品中技能壁垒最高的资料，具有纯度要求高、出产的根本工艺杂乱、出产及检测等设备出资大、技能堆集期长等特征，受技能约束，我国中低端光刻胶产品在全球占有一席之地，但高端光刻胶相对开展缓慢。不过，技能上的约束带来的也有国产代替的预期，近年来，国家出台了一系列方针扶持半导体及光刻胶工业高质量开展，推进工业研制和国产代替进程。例如，鼓舞企业加大研制投入，支撑光刻胶企业与下流半导体企业协作，加快产品验证和商场推广等。

  依据思瀚工业研究院的测算，2023 年我国光刻胶商场规模约为 121 亿元，2024-2029 年我国光刻胶商场规模年均复合增长率约10%，到2029年我国光刻胶商场规模估计打破200亿元。在 PCB、显现面板与半导体工业国产化进程加快、工业链自主可控需求火急的布景下，作为上游要害资料的光刻胶出现显着的进口代替趋势，国产光刻胶或将迎来加快速度进行开展的机会。

  整体来看，光刻胶国产代替的远景宽广，但也需求战胜技能、原资料、商场等方面的应战。下面是部分光刻胶概念股的概念解析，谨供出资者参阅。